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SK海力士完成无锡厂DRAM制程升级至1a纳米

来源:薄荷糖的夏天 2026-01-19 18:48:11

SK海力士完成无锡厂DRAM制程升级至1a纳米

1月19日消息,据韩国媒体报道,SK海力士已于近期完成对中国江苏无锡DRAM内存晶圆厂的制程升级工作,主要生产工艺已由1z纳米(第三代10纳米级)正式过渡至1a纳米(第四代10纳米级)。该工厂承担了SK海力士约三分之一的DRAM产能,在目前每月18至19万片12英寸晶圆的投片规模中,约九成已采用1a纳米工艺制造。

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由于1a纳米制程需依赖EUV光刻技术,而相关设备受到进口管制限制,无锡厂区生产的1a纳米产品需送往韩国完成部分关键工序。这一安排确保了先进制程产品的持续推进,同时兼顾合规要求。

SK海力士方面对此项报道未作公开回应。

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