韩国专家不信有国家能自研EUV光刻机：10年都搞不定
来源：互联网 2026-04-16 12:16:02韩国专家质疑EUV光刻机自研可能性：十年内难以实现量产 在尖端芯片制造领域，EUV光刻机是突破5纳米及更先进工艺不可或缺的核心设备。目前，该设备的制造由荷兰ASML公司独家垄断。需要指出的是，ASML的成功并非仅凭一己之力，其背后整合了美国、欧洲及亚洲多个国家的顶尖技术成果。 因此，当有国家宣布计划
韩国专家质疑EUV光刻机自研可能性：十年内难以实现量产
在尖端芯片制造领域，EUV光刻机是突破5纳米及更先进工艺不可或缺的核心设备。目前，该设备的制造由荷兰ASML公司独家垄断。需要指出的是，ASML的成功并非仅凭一己之力，其背后整合了美国、欧洲及亚洲多个国家的顶尖技术成果。
因此，当有国家宣布计划自主研发EUV光刻机时，其面临的挑战可想而知。光刻机常被称为“工业皇冠上的明珠”，而EUV技术的复杂程度相比常规的DUV光刻机更是高出数个量级，单台售价往往高达数亿美元。
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对于这类雄心勃勃的自研计划，业界观点存在分歧。韩国媒体近日引述了汉阳大学材料科学教授安振浩的看法，他对该计划持保留态度。安教授认为，在十年内开发出可用于大规模生产的EUV光刻机，可能性极低。
安振浩教授是科班出身的资深专家，近期刚荣获韩国工程院大奖。即便如此，他对传闻中“2028年交付量产型EUV光刻机”的时间表明确表示了怀疑。
他的理由颇为直接：即便是尼康这样在光刻技术领域深耕数十年的行业巨头，也从未在EUV方面取得实质性突破。这充分表明，攻克此项技术绝非仅靠决心和资金投入就能实现，其存在着极高的技术壁垒。
安教授进一步分析称，ASML的成功也非孤立案例。该公司耗费数十年研发EUV技术，并且依赖于一个高度协同的全球供应链生态——例如德国蔡司的顶级光学系统，以及特定的尖端光源技术。这是一个庞大的系统性工程。
当然，对于安教授的论断，也存在不同看法。有观点认为其论证逻辑存在局限：尼康未能攻克EUV，并不能直接推论其他参与者必然失败。同时，将“全球协同”视为不可复制的绝对前提，也可能忽略了特定国家内部可能存在的、深度且大规模的科研协作体系。毕竟，后者的研究机构规模与内部合作深度，未必逊色于国际联合项目。
归根结底，安教授接受韩国媒体采访时的言论，或许更多是基于行业普遍认知的一般性评论。他可能并未深入了解某个具体国家在EUV领域的详细研发布局与实际进展。因此，这番“十年内搞不定”的判断，在部分观察者看来，其依据似乎不够充分。
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